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Shin-Etsu MicroSi SINR 感光介电材料

Shin-Etsu MicroSi · 材料参数与界面设计

方案用途
比较 RDL 永久介电层的材料与界面条件,辅助评估温度循环开路风险。
技术方式
SINR 感光硅氧烷经图案化和固化形成永久介电/应力缓冲层;具体工艺按牌号确认。
适用范围
可评估重布线叠层的材料选择;需取得所选牌号的固化及界面资料并验证实际试片。
限制与待确认事项

以下为 BLNKK 根据公开资料整理的评估建议,并非原厂保证或必备资料清单。

适用边界

历史牌号/工艺结果不能保证所有现行 SINR 的性能,也不证明能避免温度循环开路或修复已有 RDL 裂纹。

评估准备

BLNKK 建议整理牌号、固化历史、模量/CTE、收缩、含湿及金属附着资料,结合叠层和电性对照。

向供应商确认

确认现行牌号资料、图案/固化条件、金属兼容性,以及代表性叠层的温度循环与界面验证。

公开依据
现行目录列出 SINR;SPIE 2006 论文研究了具名 SINR 3150HSM 的重布线/应力缓冲工艺。

补充参考资料

联系供应商

查看公司联系信息,通过官方渠道咨询此方案。

相关工程问题

以下链接来自已建立的方案关系,可继续查看工程条件和评估准备。

资料由 BLNKK 根据公开来源整理。公司资料不代表已有对应方案;方案适用性仍需结合实际样品和工程条件确认。