EAG TOF-SIMS 残留分子分析服务
Eurofins EAG Laboratories · 工程测量与特性分析
- 方案用途
- 协助识别解键合后表面残留的分子与元素信号，对照可能的材料来源。
- 技术方式
- 以脉冲初级离子激发二次离子，获取质谱与表面分布图像；深度分析另配合离子溅射。
- 适用范围
- 可分析有机／无机材料与导体／绝缘体表面；残留调查须核对真空兼容性与取样状态。
- 限制与待确认事项
以下为 BLNKK 根据公开资料整理的评估建议，并非原厂保证或必备资料清单。
适用边界基质影响离子产率，强度不能直接视为浓度；低剂量静态分析与溅射深度分析对表面的影响不同，结果也不等于清洁兼容性。
评估准备BLNKK 建议保留原始表面与处理／包装记录，准备同基材正常对照及已知粘接／解键合材料参考。
向供应商确认确认收样与保存方式、静态或深度分析、参考样品及校准需求，以及可交付的质谱、图像与解释范围。
- 公开依据
- EAG 官方页与 2022 年修订的三页方法文件说明服务、基质效应及定量限制。
补充参考资料
联系供应商
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相关工程问题
以下链接来自已建立的方案关系，可继续查看工程条件和评估准备。
资料由 BLNKK 根据公开来源整理。公司资料不代表已有对应方案；方案适用性仍需结合实际样品和工程条件确认。