BATCHSPRAY Acid RDL 种子层/阻挡层湿法刻蚀
用于比较 RDL 电镀后种子层与阻挡层的湿法刻蚀,权衡线间导电金属残留与过刻蚀引起的侧蚀。
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应用范围: 电镀后 RDL 金属分离
用于比较 RDL 电镀后种子层与阻挡层的湿法刻蚀,权衡线间导电金属残留与过刻蚀引起的侧蚀。
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