BLNKKSOLUTION NAVIGATOR
目前問題: RDL 製程後,哪一層讓晶圓更彎?返回此問題的方案地圖 →
相關方案/技術問答
技術問答BLNKK 編輯整理

如何建立逐層應力預算,選擇薄膜製程/膜厚對照,而非用封裝整體翹曲或載具平坦化掩蓋膜應力?

提供逐站曲率與膜厚資料,先確認能否分離新增膜層的影響。

warpage
新增筆記 →

問題背景與判讀重點

BLNKK 公開資料整理

尚未封模的晶圓、基板及其逐步形成的金屬/介電膜層

  • 逐層膜厚、圖形覆蓋率與順序
  • 裸基板及每一站曲率圖,含支撐與溫度
  • 基板彈性參數、熱歷程及單層對照
待補充的技術問答
  • 如何建立逐層應力預算,選擇薄膜製程/膜厚對照,而非用封裝整體翹曲或載具平坦化掩蓋膜應力?
  • 逐站同基準曲率差分與單層 coupon 對照
  • 先檢查薄膜應力反算假設,再用多層模型及未擬合樣品驗證

目前尚未邀請專家參與。此頁為 BLNKK 編輯整理;補充內容須經收件與審閱,不會自動公開。

請 BLNKK 協助 →
提供內容補充(選填)

補充專業意見

提供內容補充(選填)

下一步確認內容、回覆電子郵件與同意後,才提交給 BLNKK 審閱;不會自動公開刊登。

供應商回答

發布供應商回答 →

回答會標示公司、回答者與時間;請揭露適用條件與來源。