薄膜曲率/應力量測方法
原廠描述以基板曲率追蹤成膜及熱製程的薄膜應力/應力厚度積。
所需資料、限制與來源
所需資料
逐層膜厚、圖形覆蓋率與順序;裸基板及每一站曲率圖,含支撐與溫度;基板彈性參數、熱歷程及單層對照
主要限制
先確認光學可達、膜厚與公式適用假設。;需光學可達、基板與膜厚資料;不證明圖形化多層 RDL 可用單一薄膜公式唯一反推出各層應力。
k-Space Associates · 查看來源 ↗
官方技術摘要已核對 · 需光學可達、基板與膜厚資料;不證明圖形化多層 RDL 可用單一薄膜公式唯一反推出各層應力。
