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ICROS 晶圓背磨保護膠帶

Mitsui Chemicals · 材料參數與介面設計

方案用途
晶圓背磨時需保護正面及凸塊,同時評估薄化後的支撐、搬送與撕膜條件。
技術方式
ICROS 以保護膜與黏著層覆蓋晶圓正面;原廠按一般晶圓、不同凸塊及薄晶圓列出膠帶系列。
適用範圍
適用於矽晶圓背磨保護;UV/非 UV、凸塊吸收與薄晶圓支撐選項需依所選系列確認。
限制與待確認事項

以下為 BLNKK 根據公開資料整理的評估建議,並非原廠保證或必備資料清單。

適用邊界

各系列的凸塊與 UV/非 UV 條件不同,不能用單一撕膜流程套用所有 ICROS 產品。公開頁面未提供目標牌號的 UV 劑量或移除製程窗口,產品敘述也不等於所有晶圓皆無裂片或殘留。

評估準備

BLNKK 建議準備晶圓尺寸與正面結構、凸塊高度、目標厚度、背磨與貼膜條件及現有撕膜方式,並整理裂損、殘留與總厚度變異(TTV)的檢查結果。

向供應商確認

請確認適用牌號、膜厚、黏著力、凸塊相容性,以及是否需 UV 和其照射/撕膜條件;再約定實際晶圓的薄化、搬送與潔淨度驗證。

公開依據
Mitsui 官方 ICROS 頁分列各類膠帶,並說明部分 UV 型在照射後降低黏著力,便於撕膜。

聯絡供應商

查看公司聯絡資訊,透過官方管道詢問此方案。

相關工程問題

以下連結來自已建立的方案關係,可接續查看工程條件與評估準備。

資料由 BLNKK 依公開來源整理。公司資料不代表已有對應方案;方案適用性仍需依實際樣品與工程條件確認。