Impact HV 高黏度光化學液過濾器
Entegris · 製程設備與溫度控制
- 方案用途
- 比較 RDL 塗佈與顯影缺陷時，需要掌握供液顆粒、微氣泡及過濾配置，才能核對供液條件的影響。
- 技術方式
- Impact HV 以 UPE 膜在使用點過濾相容的高黏度光化學液與聚醯亞胺製程液，協助截留顆粒及微氣泡。
- 適用範圍
- 原廠列出的光化學液／PI 供液，依具體料號、化學相容性、溫度與壓差窗口評估。
- 限制與待確認事項
以下為 BLNKK 根據公開資料整理的評估建議，並非原廠保證或必備資料清單。
適用邊界額定截留不保證去除所有奈米顆粒或完全無氣泡。含功能填料的 underfill／EMC 未列為此用途，需另評估是否改變預期配方。
評估準備BLNKK 建議整理液體配方、黏度、供液及換濾器履歷，對照壓降、顆粒／氣泡與過濾前後配方及塗佈缺陷。
向供應商確認確認料號、相容性、投用與更換方法，以及本流量、溫度和壓力下的截留表現與添加物保持資料。
- 公開依據
- 現行產品頁及 2023 年 2 月資料表列出具名 HV 配置、1 µm 額定截留與 40°C 操作上限；壓力規格附有溫度條件。
補充參考資料
聯絡供應商
查看公司聯絡資訊，透過官方管道詢問此方案。
相關工程問題
以下連結來自已建立的方案關係，可接續查看工程條件與評估準備。
資料由 BLNKK 依公開來源整理。公司資料不代表已有對應方案；方案適用性仍需依實際樣品與工程條件確認。