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ContourX-500 非接觸 3D 表面與共平面度量測

Bruker · 翹曲、形貌與應力量測

方案用途
晶粒、凸塊或封裝表面的高度、平整度與共平面度差異,需要 3D 表面量測才能補足 2D 影像提供的資訊。
技術方式
以白光干涉進行非接觸 3D 表面量測,搭配編碼 XY 平台及自動傾斜、光強調整,建立表面高度與形貌資料。
適用範圍
官方列出的半導體用途包括 CMP 後晶粒平整度、凸塊高度與共平面度,以及表面缺陷、關鍵尺寸量測;實際量測範圍取決於樣品與光學配置。
限制與待確認事項

以下為 BLNKK 根據公開資料整理的評估建議,並非原廠保證或必備資料清單。

適用邊界

表面形貌不能直接判定埋藏接合層的空洞或剝離。原廠提供透過透明介質的配件,但這不代表標準配置含溫控腔體,或已能完成指定的回焊翹曲量測。

評估準備

建議準備樣品材質、表面狀況、量測區域、預期高度差、共平面度定義與重複性目標;若需溫度下量測,另說明溫程與視窗條件。

向供應商確認

確認物鏡、拼接、治具及分析軟體是否符合目標範圍,並以代表性樣品評估量測重複性。透過透明蓋板或腔體量測時,另確認配件相容性與校正方式。

公開依據
ContourX-500 產品頁明列上述量測用途及自動化功能,另提供透過透明介質量測的配件說明。資料表需透過申請頁取得,本次未讀取附件規格。

補充參考資料

聯絡供應商

查看公司聯絡資訊,透過官方管道詢問此方案。

相關工程問題

以下連結來自已建立的方案關係,可接續查看工程條件與評估準備。

資料由 BLNKK 依公開來源整理。公司資料不代表已有對應方案;方案適用性仍需依實際樣品與工程條件確認。