RDL 除膠與乾式蝕刻製程方案
友威 UVAT · 製程設備與窗口控制
研究候選・適用條件待確認
官方搜尋索引；原頁與規格仍需確認。
研究查核日期: 2026-10-15- 方案用途
- 候選工程用途：【RDL 層間接觸初始高電阻】比較通孔底部清潔、金屬種子層與初始接觸。
- 技術方式
- 來源尚未提供完整機制或製程細節，請向供應商確認。
- 適用範圍
- 候選工程用途：【RDL 層間接觸初始高電阻】比較通孔底部清潔、金屬種子層與初始接觸。
- 限制與待確認事項
- 【RDL 層間接觸初始高電阻】清洗／除膠須確認介電材料及金屬損傷；需 Kelvin 或鏈式電阻驗證。 需由供應商確認樣品、規格及承作條件；未驗證改善效果。
- 公開依據
- 官方來源列出「RDL 除膠與乾式蝕刻製程方案」。
補充參考資料
聯絡供應商
查看公司聯絡資訊，透過官方管道詢問此方案。
候選用途與工程問題
資料由 BLNKK 依公開來源整理。公司資料不代表已有對應方案；方案適用性仍需依實際樣品與工程條件確認。