UX-5 面板投影曝光設備
候選工程用途：【RDL 製造後線間短路】檢查微影、金屬線路與蝕刻殘留造成的初始短路。
研究候選・適用條件待確認
官方搜尋索引；原頁與規格仍需確認。
研究查核日期: 2026-10-15USHIO
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補充這家公司的方案 →DLT 先進封裝微影設備
候選工程用途：【RDL 製造後線間短路】檢查微影、金屬線路與蝕刻殘留造成的初始短路。
研究候選・適用條件待確認
官方搜尋索引；原頁與規格仍需確認。
研究查核日期: 2026-10-15候選用途與工程問題
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