薄膜曲率/应力量测方法
原厂描述以基板曲率追踪成膜及热制程的薄膜应力/应力厚度积。
所需资料、限制与来源
所需资料
逐层膜厚、图形覆盖率与顺序;裸基板及每一站曲率图,含支撑与温度;基板弹性参数、热历程及单层对照
主要限制
先确认光学可达、膜厚与公式适用假设。;需光学可达、基板与膜厚资料;不证明图形化多层 RDL 可用单一薄膜公式唯一反推出各层应力。
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官方技术摘要已核对 · 需光学可达、基板与膜厚资料;不证明图形化多层 RDL 可用单一薄膜公式唯一反推出各层应力。
