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AEMC|新应材股份有限公司

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研究候选・适用条件待确认

公司尚未认领;资料根据公开研究整理,不代表供应商背书或效果验证。

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目录中的方案 · 3

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材料参数与界面设计

先进封装底部填胶材料

候选工程用途:【大型多芯片底部填胶出现空洞与固化后分层】比较供胶、毛细流动、固化与界面检查结果。 【底部填胶 fillet 与 keep-out 干涉】比较供胶量、路径与胶边形貌。

研究候选・适用条件待确认

原厂公开页面;样品适用性尚未确认。

研究核查日期: 2026-10-15

候选用途与工程问题

大型多芯粒底部填充胶空洞与固化后分层

比较供胶、毛细流动、固化与界面检查结果。

先辨识缺陷出现阶段;材料或设备能力不等于已证明无空洞。

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底部填充胶外缘胶角与禁胶区干涉

比较供胶量、路径与胶边形貌。

需实际间隙、润湿性与固化后尺寸;低黏度或高精度点胶不能保证不溢胶。

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材料参数与界面设计

正型/负型/剥离型光阻

候选工程用途:【RDL 制造后线间短路】检查微影、金属线路与蚀刻残留造成的初始短路。

研究候选・适用条件待确认

原厂公开页面;样品适用性尚未确认。

研究核查日期: 2026-10-15

候选用途与工程问题

RDL 制造后线间短路

检查微影、金属线路与蚀刻残留造成的初始短路。

AOI 不一定能验出埋藏短路;需电性与缺陷位置对照。

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材料参数与界面设计

先进封装聚醯亚胺介电材料

候选工程用途:【RDL 成膜/固化造成的晶圆曲率增量】评估成膜与固化材料对曲率增量的影响。

研究候选・适用条件待确认

原厂公开页面;样品适用性尚未确认。

研究核查日期: 2026-10-15

候选用途与工程问题

RDL 制程后,哪一层让晶圆更弯?

评估成膜与固化材料对曲率增量的影响。

需成膜前后曲率、膜厚及材料性质;压痕模数不是残留应力测量。

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工程问题关联由 BLNKK 根据公开资料整理;不代表已确认样品适用性或处理效果。

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