RDL 除胶与干式蚀刻工艺方案
友威 UVAT · 工艺设备与窗口控制
研究候选・适用条件待确认
官方搜索索引；原页与规格仍需确认。
研究核查日期: 2026-10-15- 方案用途
- 候选工程用途：【RDL 层间接触初始高电阻】比较通孔底部清洁、金属种子层与初始接触。
- 技术方式
- 来源尚未提供完整机制或工艺细节，请向供应商确认。
- 适用范围
- 候选工程用途：【RDL 层间接触初始高电阻】比较通孔底部清洁、金属种子层与初始接触。
- 限制与待确认事项
- 【RDL 层间接触初始高电阻】清洗／除胶须确认介电材料及金属损伤；需 Kelvin 或链式电阻验证。 需由供应商确认样品、规格及承接条件；未验证改善效果。
- 公开依据
- 官方来源列出「RDL 除胶与干式蚀刻工艺方案」。
补充参考资料
联系供应商
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候选用途与工程问题
资料由 BLNKK 根据公开来源整理。公司资料不代表已有对应方案；方案适用性仍需结合实际样品和工程条件确认。