DYNASTRIP AP7900A 厚光刻胶去除材料
凸点与铜柱工艺需要去除图形化厚光刻胶,并检查残留及暴露材料。AP7900A 可作为 WLP 厚胶去除配方的评估候选。
SOLUTION NAVIGATOR查看供应商公开信息,以及目前已收录的技术方案。
查看联系信息 ↓应用范围: WLP/凸点/铜柱 · 硅胶型临时键合残留 · 凸点镀模/成形条件比较
凸点与铜柱工艺需要去除图形化厚光刻胶,并检查残留及暴露材料。AP7900A 可作为 WLP 厚胶去除配方的评估候选。
针对已确认属于固化硅胶的临时键合残留,准备清洗和表面兼容性比较。
比较凸点成形条件时,应把光刻胶镀模厚度和开口轮廓纳入高度不均的评估。
以下候选方案已收录于工程问题流程,可继续查看条件、来源和比较内容。
通过以下官方渠道,自行联系供应商。
台湾总公司与先进科技材料新竹厂使用集团公开邮箱,并非特定材料业务专线;请确认产品负责窗口。电子材料产品也可使用 Electronics 表单,选择所在地及薄膜、平坦化、光刻等领域。德国总部为公司一般窗口。美国与加拿大业务使用 EMD 品牌,与美国制药公司 Merck & Co. 不同。 官方来源 ↗
台湾 · 原厂办事机构
官方来源 ↗查阅日期
德国 · 总部
官方来源 ↗查阅日期
台湾 · 原厂办事机构
官方来源 ↗查阅日期
联系信息根据原厂公开资料整理;具体产品的负责人和服务范围,请向供应商确认。
资料由 BLNKK 根据公开来源整理。公司资料不代表已有对应方案;方案适用性仍需结合实际样品和工程条件确认。