Nippon Kayaku NK poleve 半導體去光阻液
Nippon Kayaku Co., Ltd. · 材料參數與介面設計
- 方案用途
- 電漿切割後的清洗選擇需先分辨光阻、蝕刻殘留與側壁損傷。
- 技術方式
- NK poleve 提供半導體光阻去除化學品；517 為標準去除劑，496 對應 Bosch／TSV 製程硬化光阻。
- 適用範圍
- 可評估光阻去除需求；切割後殘留、裸露金屬及介電材料的相容性需另確認。
- 限制與待確認事項
以下為 BLNKK 根據公開資料整理的評估建議，並非原廠保證或必備資料清單。
適用邊界公開頁未證實特定電漿切割流程的相容性，也不保證零殘留、零腐蝕或修復矽損傷；未具名的灰化清洗示例不能直接套用至 517／496。
評估準備BLNKK 建議整理光阻與電漿條件、殘留分析、側壁／金屬／介電層材料，以及清洗前後影像與電性觀察。
向供應商確認請確認適用牌號、對目標殘留的去除能力、浸泡／沖洗／乾燥條件，以及金屬腐蝕、表面變化與後續接合相容性的評估。
- 公開依據
- 官方半導體段落具名區分 517／496，並列出 WLP 光阻與灰化後殘留清洗用途。
聯絡供應商
查看公司聯絡資訊，透過官方管道詢問此方案。
相關工程問題
以下連結來自已建立的方案關係，可接續查看工程條件與評估準備。
資料由 BLNKK 依公開來源整理。公司資料不代表已有對應方案；方案適用性仍需依實際樣品與工程條件確認。