BLNKKSOLUTION NAVIGATOR

本机审阅版本・尚未发布

7980 晶圆 2D/3D 形貌测量

Chroma ATE · 测量与检查

研究候选・适用条件待确认

原厂公开页面;样品适用性尚未确认。

研究核查日期: 2026-10-17
方案用途
比较 TSV 露铜、微凸点及键合前表面的高度与形貌。
技术方式
采用 BLiS 光学技术和图像拼接获取表面轮廓。
适用范围
适用于原厂列明的晶圆规格和可测表面;实际样品需确认。
限制与待确认事项
分辨率不等于准确度;需验证材料反射、遮挡、倾斜校正和重复性。不能据此判断埋藏空洞、表面化学或键合良率。
公开依据
官方产品页及美国站列有 TSV、凸点高度、台阶和粗糙度应用。
报告错误/补充资料 →

补充参考资料

联系供应商

查看公司联系信息,通过官方渠道咨询此方案。

候选用途与工程问题

TSV 露铜高度与背面共面性

测量露铜、台阶及面内高度分布,与原题的露铜高度问题对应。

需确认 Cu/Si 光学差异、基准和重复性;不能直接选定蚀刻或 CMP 工艺。

查看工程问题 →
微凸点高度不均与共面性

原厂列有凸点高度应用,可评估键合前阵列高度及共面性。

需区分倾斜、晶圆弯曲和凸点差异;按实际尺寸及材料验证。

查看工程问题 →
混合键合前表面接合条件确认

表面轮廓和粗糙度可提供键合前形貌对照;属于 BLNKK 的辅助测量推论。

未建立本案 Cu recess 或粗糙度放行窗口;不能验证表面化学、活化或可键合性。

查看工程问题 →

资料由 BLNKK 根据公开来源整理。公司资料不代表已有对应方案;方案适用性仍需结合实际样品和工程条件确认。