PackageBond 面板级铜—聚合物界面增粘工艺
当分层位置已确认在铜与聚合物界面时,可比较界面附着力促进处理对塑封、回流焊及吸湿后可靠性的影响。
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查看联系信息 ↓应用范围: PLP/重构面板/RDL 界面 · 功率半导体/固晶 · 面板级铜柱形成对比 · 面板级通孔填铜对照
当分层位置已确认在铜与聚合物界面时,可比较界面附着力促进处理对塑封、回流焊及吸湿后可靠性的影响。
功率芯片贴装的银烧结工艺窗口,需要同时评估膏材、两侧金属化及键合工艺条件,避免只比较材料名称。
凸点高度不均,需要对比铜柱形成条件和实际高度分布。
填铜空洞比较,需要控制导通孔几何、种子层和电镀条件。
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