Sentaurus Interconnect 工艺历程与互连应力可靠性仿真
互连会在沉积、热处理和冷却等步骤累积应力,需要将工艺历史纳入局部裂纹、脱粘或空洞风险分析。
SOLUTION NAVIGATOR查看供应商公开信息,以及目前已收录的技术方案。
查看联系信息 ↓应用范围: TSV/BEOL/微凸点/焊点/CPI · Chiplet/UCIe · D2D/封装电性通道 · RDL 接触材料研究
互连会在沉积、热处理和冷却等步骤累积应力,需要将工艺历史纳入局部裂纹、脱粘或空洞风险分析。
针对随温度变化的芯粒间链路错误,获取可重复对比的 lane 裕量与测试记录。
D2D 信号裕度评估,需要可对照的驱动端、通道和接收端模型。
接触电阻偏高时,可用原子模型比较材料和界面结构的影响,再与实际接点测量对照。
以下候选方案已收录于工程问题流程,可继续查看条件、来源和比较内容。
通过以下官方渠道,自行联系供应商。
半导体与封装仿真请使用销售表单,选择“Modeling & Simulation”或相应产品类别,并填写产品与需求。所列办公室电话及台湾邮箱提供一般联系转接,并非特定产品技术支持或专属业务窗口。 官方来源 ↗
中国大陆 · 原厂办事机构
官方来源 ↗查阅日期
台湾 · 原厂办事机构
官方来源 ↗查阅日期
美国 · 总部
官方来源 ↗查阅日期
联系信息根据原厂公开资料整理;具体产品的负责人和服务范围,请向供应商确认。
资料由 BLNKK 根据公开来源整理。公司资料不代表已有对应方案;方案适用性仍需结合实际样品和工程条件确认。