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7980 晶圓 2D/3D 形貌量測

Chroma ATE · 量測與檢查

研究候選・適用條件待確認

原廠公開頁面;樣品適用性尚未確認。

研究查核日期: 2026-10-17
方案用途
比較 TSV 露銅、微凸塊與接合前表面的高度及形貌。
技術方式
以 BLiS 光學技術與影像拼接取得表面輪廓。
適用範圍
限原廠列示的晶圓格式與可量測表面;實際試片需確認。
限制與待確認事項
量測解析度不等於準確度;需驗證材料反射、遮蔽、傾斜校正與重複性。不能據此判定埋藏空洞、表面化學或接合良率。
公開依據
官方產品頁及美國頁列有 TSV、凸塊高度、階差與粗糙度用途。
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補充參考資料

聯絡供應商

查看公司聯絡資訊,透過官方管道詢問此方案。

候選用途與工程問題

TSV 露銅高度與背面共面性

量測露銅、階差與面內高度分布,與原題的露銅高度問題相符。

需確認 Cu/Si 光學差異、基準與重複性;不能據此選定蝕刻或 CMP 製程。

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微凸塊高度不均與共面性

原廠列有凸塊高度用途,可評估接合前陣列高度與共面性。

須分離傾斜、晶圓弓形與凸塊差異;需以實際尺寸與材質試片驗證。

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混合鍵合前表面可接合性放行

表面輪廓與粗糙度可提供接合前形貌對照;這是 BLNKK 的輔助量測推論。

未建立本案 Cu recess 或粗糙度放行窗口;不能驗證表面化學、活化或可接合性。

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資料由 BLNKK 依公開來源整理。公司資料不代表已有對應方案;方案適用性仍需依實際樣品與工程條件確認。