DYNASTRIP AP7900A 厚光阻去除材料
凸塊與銅柱製程需去除圖案化厚光阻,並檢查殘留及暴露材料。AP7900A 可作為 WLP 厚光阻去除配方的評估候選。
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查看聯絡資訊 ↓應用範圍: WLP/凸塊/銅柱 · 矽膠型暫時接合殘留 · 凸塊鍍模/成形條件比較
凸塊與銅柱製程需去除圖案化厚光阻,並檢查殘留及暴露材料。AP7900A 可作為 WLP 厚光阻去除配方的評估候選。
針對已確認為固化矽膠的暫時接合殘留,準備清洗與表面相容性比較。
比較凸塊成形條件時,需把光阻鍍模厚度與開口輪廓納入高度不均的評估。
以下候選方案已收錄於工程問題流程,可接續查看條件、來源與比較內容。
透過以下官方管道,自行聯絡供應商。
台灣總公司與先進科技材料新竹廠使用集團公開信箱,並非特定材料業務專線;請確認產品承辦窗口。電子材料產品也可使用 Electronics 表單,選擇所在地與薄膜、平坦化、微影等領域。德國總部為公司一般窗口。美國與加拿大業務使用 EMD 品牌,與美國製藥公司 Merck & Co. 不同。 官方來源 ↗
台灣 · 原廠據點
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德國 · 總部
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台灣 · 原廠據點
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