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Sinyang|上海新陽

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研究候選・適用條件待確認

公司尚未認領;資料由公開研究整理,不代表供應商背書或效果驗證。

官方方案影片

等待官方提交

目錄中的方案 · 3

補充這家公司的方案 →
材料參數與介面設計

TSV 銅電鍍化學材料

候選工程用途:【TSV 填銅 seam 與空洞】比較 TSV 填銅化學與填充結果。

研究候選・適用條件待確認

官方搜尋索引;原頁與規格仍需確認。

研究查核日期: 2026-10-15

候選用途與工程問題

TSV 填銅 seam 與空洞

比較 TSV 填銅化學與填充結果。

需確認深寬比、種子層與截面;供應商的無空洞宣稱不能跨條件套用。

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材料參數與介面設計

銅柱與焊料凸塊電鍍化學材料

候選工程用途:【微凸塊高度不均與共面性】比較凸塊製作或三維高度量測結果。 【焊點 IMC 介面脆性破裂】以剪切、截面與破面分析區分失效位置。

研究候選・適用條件待確認

官方搜尋索引;原頁與規格仍需確認。

研究查核日期: 2026-10-15

候選用途與工程問題

微凸塊高度不均與共面性

比較凸塊製作或三維高度量測結果。

需確認間距、反射率、參考平面與重複性;製作服務不代表共面性已達標。

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焊點 IMC 介面脆性破裂

以剪切、截面與破面分析區分失效位置。

需保留載入方式與斷裂位置;強度數值不能單獨辨識 IMC 脆裂。

查看工程問題 →
材料參數與介面設計

銅/鈦選擇性蝕刻液

候選工程用途:【RDL 製造後線間短路】檢查微影、金屬線路與蝕刻殘留造成的初始短路。

研究候選・適用條件待確認

官方搜尋索引;原頁與規格仍需確認。

研究查核日期: 2026-10-15

候選用途與工程問題

RDL 製造後線間短路

檢查微影、金屬線路與蝕刻殘留造成的初始短路。

AOI 不一定能驗出埋藏短路;需電性與缺陷位置對照。

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工程問題關聯由 BLNKK 依公開資料整理;不代表已確認樣品適用性或處理成效。

網路研討會

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資料由 BLNKK 依公開來源整理。公司資料不代表已有對應方案;方案適用性仍需依實際樣品與工程條件確認。