先補原始破面與材料鑑別限制。
待確認:保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?;破裂附近的相、成分、層序與局部厚度是否有正常對照?工程條件
確認條件,準備下一步。
針對「焊點 IMC 介面脆性破裂」,補充會改變評估順序的資訊,並檢查每個候選的依據與限制。
工程條件
用5個關鍵條件,看看評估順序如何改變。
先定位 IMC/金屬介面破面與實際層序,再控制金屬化、老化及施力模式比較材料/接合流程。 未知維持待確認;「可評估」只表示方法輸入齊備,不表示已診斷或通過資格。
破面與材料
履歷與負荷
所有路徑的條件判斷
即時變化
目前評估順序
先補實際金屬化與未老化配對資料。
待確認:保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?;破裂附近的相、成分、層序與局部厚度是否有正常對照?;UBM/pad finish、焊料、前處理與組裝批次是否同位置可追溯?;回焊次數、老化溫度/時間及未老化配對樣品是否可比?先補負荷/工具位置及原始破面分類。
待確認:保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?;破裂附近的相、成分、層序與局部厚度是否有正常對照?;負荷模式/速率、工具位置與製樣是否固定,且分類實際破面?候選方案
條件改變後的目前判斷
此區只依你確認的條件調整評估順序;公開資料不能證明方案適用於實際樣品。
有新的測試結果?更新判讀
完成一輪對照後,按實際觀察選擇下一步。
結果只改變下一輪調查順序;不會修改條件答案、證明根因或授予方案資格。
目前判斷與下一步
依自述條件與公開資料整理;可先評估不代表已驗證樣品適用性或根因。排列順序不代表最佳方案。
已知條件 · 0
重要的未知條件 · 5
- 保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?總 open 或脆性外觀不能定位破裂層;保留原始兩側破面與製樣假影。
- 破裂附近的相、成分、層序與局部厚度是否有正常對照?EDX 元素比例未必足以唯一鑑相;需要方法解析度與層序,不用單一平均厚度作臨界值。
- UBM/pad finish、焊料、前處理與組裝批次是否同位置可追溯?商品名不代表本介面層;材料改變須控制接合與取樣。
- 回焊次數、老化溫度/時間及未老化配對樣品是否可比?IMC 成長與破裂可能並存,但無基線不能由厚層判定老化根因。
- 負荷模式/速率、工具位置與製樣是否固定,且分類實際破面?shear/pull 不可直接換算跌落;高強度或 bulk toughness 不能代實際接點破裂模式。
值得評估的路徑
IMC/金屬破面與層序分析
先補原始破面與材料鑑別限制。
- 保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?
- 破裂附近的相、成分、層序與局部厚度是否有正常對照?
哪些條件會改變這條路徑
- 保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?支持先評估: 已定位 IMC/金屬介面 · 目前不適合: 只有總 open/未定位破面
- 破裂附近的相、成分、層序與局部厚度是否有正常對照?支持先評估: 層序/成分與方法限制明確 · 目前不適合: 只有平均厚度/未確認相
金屬化與老化分段對照
先補實際金屬化與未老化配對資料。
- 保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?
- 破裂附近的相、成分、層序與局部厚度是否有正常對照?
- UBM/pad finish、焊料、前處理與組裝批次是否同位置可追溯?
- 回焊次數、老化溫度/時間及未老化配對樣品是否可比?
哪些條件會改變這條路徑
- 保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?支持先評估: 已定位 IMC/金屬介面 · 目前不適合: 只有總 open/未定位破面
- 破裂附近的相、成分、層序與局部厚度是否有正常對照?支持先評估: 層序/成分與方法限制明確 · 目前不適合: 只有平均厚度/未確認相
- UBM/pad finish、焊料、前處理與組裝批次是否同位置可追溯?支持先評估: 金屬化/組裝履歷可比 · 目前不適合: 只有名義材料名稱
- 回焊次數、老化溫度/時間及未老化配對樣品是否可比?支持先評估: 熱歷史與未老化對照明確 · 目前不適合: 只有失效後層厚/不明熱歷史
接下來先做
尚未提供結果;先補關鍵條件,再安排評估。
- 保存的破面/截面是否定位在 IMC 或金屬化介面,而非焊料/PCB?
準備這些資料
- 保存兩側破面與正常接點;層序/位置圖;可破壞範圍與方法限制
- 實際破面與相/層序;配對金屬化與老化履歷;同模式正常/異常力學結果
討論時先問
- 原始裂紋在哪一層,製樣是否可能移動破面?
- 實際相與層序如何鑑別,厚度分布與解析度限制為何?
公開參考來源
ASE · Failure Analysis Lab ↗公開分析清單不保證特定 bump、IMC 或 PCB 層的解析度/承接;製樣假影、取樣代表性與可破壞範圍另確認。
Fields, Low, Lucey / NIST author repository · Physical and Mechanical Properties of Intermetallic Compounds Commonly Found in Solder Joints ↗1991 bulk 試片不是薄層接點資格;不建立通用 IMC 臨界厚度、實際破面或材料排名。
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版本保留當時的條件、結果、假設與已選方案;後續修改不會覆寫舊版。
查看候選、完整來源與限制
相關方案
14個候選方案
IMC 破面/層序目標分析評估
ASE
公開 SEM/EDX/截面能力可按已定位介面確認鑑相與製樣範圍。
依據:ASE:Failure Analysis Lab;Fields, Low, Lucey / NIST author repository:Physical and Mechanical Properties of Intermetallic Compounds Commonly Found in Solder Joints查看適用前提、排除條件與正式方案關係
目前只有經查核的公開流程資料,未與 BLNKK 正式方案資料庫中的單一產品紀錄建立對應。
- 保存兩側破面與正常接點
- 層序/位置圖
- 可破壞範圍與方法限制
- bulk 脆性當樣品破面證明
- 平均厚度當通用失效門檻
受控 shear/pull 模式評估
Nordson Test & Inspection
公開 bond test 能力可評估特定模式與接點可存取範圍。
依據:Nordson Test & Inspection:4000 Plus Bondtester查看適用前提、排除條件與正式方案關係
目前只有經查核的公開流程資料,未與 BLNKK 正式方案資料庫中的單一產品紀錄建立對應。
- 同模式治具/速率/工具位置
- 正常與異常接點
- 破面分類與製樣
- shear 最大力換產品壽命
- pull 模式直接代跌落負荷
材料、老化與力學破面共同審查
BLNKK 工程審查需求(服務方待確認)
層序、金屬化/熱歷史和固定力學模式均齊備才比較材料或接合流程。
依據:Fields, Low, Lucey / NIST author repository:Physical and Mechanical Properties of Intermetallic Compounds Commonly Found in Solder Joints;ASE:Failure Analysis Lab;Nordson Test & Inspection:4000 Plus Bondtester;Handwerker, Noctor, Whitten / NIST:Reliability of Lead-Free Solders查看適用前提、排除條件與正式方案關係
目前只有經查核的公開流程資料,未與 BLNKK 正式方案資料庫中的單一產品紀錄建立對應。
- 實際破面與相/層序
- 配對金屬化與老化履歷
- 同模式正常/異常力學結果
- 增加厚度即唯一根因
- bulk 材料排序當接點排名
Spherolyte Ni 銅擴散阻障電鍍液
MKS’ Atotech
若焊點脆裂評估涉及銅擴散與金屬化層序,可把鎳阻障層列為製程候選;仍須核對失效機制及接點相容性。
依據:官方產品頁明列銅擴散阻障用途及添加劑調整方式;未公開特定焊點的 IMC 脆裂改善或老化資格資料。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 適用於可導入電鍍鎳的先進封裝金屬化流程。原廠亦列 Ni 微柱與 Ni TSV,實際接觸金屬、層厚及焊接條件需個別確認。
- 適用邊界 這是金屬化變更,不是既有脆裂接點的修復。公開頁未提供指定 pad/焊料組合的合格條件,不能據此宣稱消除脆裂。 評估準備 BLNKK 建議整理 pad/UBM 層序、焊料、鎳層厚度及後續熱歷程,準備截面、IMC 與破面對照,以比較變更前後的接點行為。 向供應商確認 確認阻障用途所需的添加劑、浴液控制、設備與前處理,以及層厚/均勻性要求。討論與現有金屬堆疊的相容性及需補做的老化試驗。
BT 4000HS 高速接點剪切比較
Nordson Test & Inspection
焊點脆性破壞與 pad/基材失效,需要在受控高速剪切條件下比較。
依據:現行資料表列出最高 4 m/s 剪切與峰前/峰後能量;技術頁說明曲線可協助區分破壞類型。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 原廠列出 BGA、CSP、QFN 等接點與基材;需保留加速空間並確認工具、固定及可達性。
- 適用邊界 屬破壞性、速率相關的局部測試;不能直接等同整板跌落或熱循環壽命。曲線不能單獨認定 pad cratering,仍需破壞面/截面證據。 評估準備 BLNKK 建議整理接點尺寸、材料/製程、工具高度、方向、速度與夾具,並建立一致的破壞分類及對照樣品。 向供應商確認 請確認加速間隙、感測器/轉接器、校正、取樣與能量分析方式,以及代表性試片與板級測試的相關性。
ElectroPuls E1000 接點試片循環力學比較
Instron
在一致的負荷條件下比較焊接接點試片的循環力學反應與損傷。
依據:Instron 系列頁與 E1000 V9 技術資料確認動態/靜態測試及配置;未提供本接點的失效驗證。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 用於接點試片前,需確認可代表接點的幾何與施力方向,以及低力範圍和夾具順應性。
- 適用邊界 力學曲線不能單獨辨認 IMC 破面,也不等於熱循環或實際壽命。E1000 不應套用其他系列型號的扭轉能力;低力與頻率表現需依配置確認。 評估準備 BLNKK 建議整理試片與夾具尺寸、接點方向、負荷/位移模式、幅值與頻率,以及局部變形和破面觀察。 向供應商確認 確認荷重元量程與有效精度、夾具順應性、對準和循環控制窗口,並討論破壞判定及試驗後顯微分析。
Talos F200X G2 接點薄片成像與元素分析
Thermo Fisher Scientific
IMC 破面審查需核對局部層序及成分。
依據:原廠 G2 四頁資料表說明成像、EDS 與繞射能力,文件版次為 2021 年 12 月。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 可評估已定位並另外製備成可透射電子薄片的接點/金屬層;取樣位置與厚度須確認。
- 適用邊界 薄片為局部、破壞性取樣,不能代表整個焊點;EDS 成分本身不能完整判定相別或斷裂原因。 評估準備 BLNKK 建議整理失效位置、層次/材料、熱履歷、良品對照及薄片製備紀錄,並評估厚度與製樣假象。 向供應商確認 確認製樣責任、取樣代表性、束流損傷控制、EDS 配置,以及是否需繞射或其他方法輔助判讀。
JEM-F200 IMC 薄片微結構分析
JEOL
分析 IMC 附近破裂時,可觀察局部微結構與元素分布,補充界面失效的證據。
依據:JEOL 官方頁列出 TEM/STEM、EDS 選配、FIB 薄片轉移流程及半導體元件分析範例。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 適用於已製備的電子透明薄片;IMC 界面用途需先確認取樣位置、製片方式與分析配置。
- 適用邊界 薄片只代表取樣區域,製片偏差及電子束影響需納入判讀;元素分布不能單獨證明破裂機制、焊點強度或壽命。 評估準備 BLNKK 建議整理原始破裂座標、界面疊層、製片紀錄與待分析元素,並保留電性、截面及製程背景資料。 向供應商確認 確認薄片與載具是否適用、EDS 等選配及分析條件,並議定如何辨識製片或束流造成的變化。
Xenolyte ENEPIG 接點表面處理套組
MKS’ Atotech
比較焊墊表面層與後續 IMC/破裂位置。
依據:原廠 Ni、Pd HS 與 Au 頁分別說明鍍層及用途,並區分 ENEPIG、ENIG 與 ENEP。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 適用於原廠列出的 Cu/Al 焊墊表面,供後續打線或焊料接合;各層配方須配合用途選擇。
- 適用邊界 表面處理不能保證消除脆性 IMC;不同鎳配方與浸金/自催化厚金製程不可視為相同條件。 評估準備 BLNKK 建議整理焊墊材料、目標鍍層厚度、焊料與回焊/老化歷程,以及既有潤濕、截面與破裂位置資料。 向供應商確認 確認各層配方與前處理、厚度窗口、設備相容性,以及樣品驗證與可靠度評估方式。
EAG XRD 接合材料晶相確認
Eurofins EAG Laboratories
脆性破裂需把晶相與實際破裂層分開確認。
依據:EAG 官方頁與 2023 年修訂的三頁方法文件說明晶相、織構及量測限制。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 適用於粉末、薄膜或成品中的晶體材料;局部 IMC 是否可辨須核對含量、取樣範圍與訊號。
- 適用邊界 微量或微小晶相可能無法辨識;XRD 不直接給出破裂位置或深度剖面,也不能辨識非晶成分的化學組成。 評估準備 BLNKK 建議整理接合材料、熱歷程、疑似 IMC 與截面/破裂位置,並準備代表性正常及異常取樣。 向供應商確認 確認可用樣品與量測幾何、微區或掠入射配置、晶相參考及實際可辨範圍,並核對如何與截面證據整合。
JXA-iHP200F 接合截面 WDS 元素定量分析
JEOL
焊點脆裂截面需要比較局部金屬成分。
依據:JEOL 的具名產品頁及發布說明公開整合式 WDS/EDS 分析能力,未提供特定焊點介面的定量誤差或脆裂根因驗證。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 可用於適當製樣的可接近截面;需確認真空相容性、目標層厚、取樣區與鄰層訊號的影響。
- 適用邊界 WDS 元素組成不能單獨證明晶相或裂紋原因。薄層分析可能混入鄰近材料訊號,不能把光束或影像尺度直接視為成分分析的有效取樣尺度。 評估準備 BLNKK 建議準備失效/正常位置圖、疊層材料、預估層厚、製樣履歷及已有 SEM/EDS 資料。先界定待比較元素與區域,再討論標準試片及定量需求。 向供應商確認 確認束流/電壓、標準與校正、背景/鄰層影響及檢出限的驗證方法。若需判別晶相或根因,另約定搭配的方法與可支持的結論。
DAGE 4600 自動化接合強度測試
Nordson Test & Inspection
以受控接點載入及破面分類比較脆性介面失效,力值本身不能判定 IMC 成分。
依據:原廠列出拉力、剪切與冷凸塊拉力選項,平台測試力範圍為 0.01 gf–50 kgf,另有失效影像與自動搬送/追溯功能。實際量程與功能依量測模組及配置確認。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 適合封裝與晶圓級互連的抽測、工程驗證和製程比較;原廠列出小於 50 µm 的 pillar/bump、BGA、載板及複合材料晶圓等應用。
- 接點類型、工具幾何與速度
- 破面影像與約定失效分類
- 適用邊界 局部接合強度不能單獨代表整體封裝壽命。破壞性測試會消耗樣品;是否適用非破壞或指定載荷模式,需依接合形式與驗收方法確認。 評估準備 建議準備接合尺寸、材料、樣品照片、可接受的破壞方式、測試標準與抽樣計畫,並說明所需的失效分類和資料追溯。 向供應商確認 確認量測模組、工具幾何、力值量程、載入方向與速度,以及樣品夾持/上料相容性。另確認重複性、失效分類及工廠通訊功能的配置。
- 破壞性測試,須保留配對樣品做顯微分析
- 不是壽命或成分量測
先進封裝失效隔離與根因分析
Eurofins EAG Laboratories
先定位實際破裂面與接點層序,再判斷脆性失效是否來自 IMC。
依據:原廠服務頁與應用說明列出失效驗證、非破壞檢查、故障定位和物理分析,並以案件需求決定分析範圍。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 適用於設計除錯、封裝組裝、可靠度試驗及客退品分析,涵蓋堆疊晶粒、覆晶、底部填充與焊點等結構。
- 原始破面樣品與金屬化歷程
- 開路定位與配對正常接點
- 適用邊界 找到異常位置不一定等同確認根因;切片或去層也可能改變樣品,應先約定分析順序、對照樣品與可接受的破壞程度。 評估準備 可先整理故障症狀、重現條件、測試與製程紀錄,並準備失效品及良品對照、結構圖與已完成的檢查結果。 向供應商確認 請確認案件可採方法、樣品數與保存安排、破壞分析授權,以及交付報告能回答的問題、時程和費用範圍。
- 製樣可能破壞原始破面證據
- 確認實驗室據點與分析解析度
Helios 5 PFIB-SEM 先進封裝大面積截面與失效分析
Thermo Fisher Scientific
製作已定位破面/介面的截面,保留原始證據並配合成分分析。
依據:原廠 Helios 5 PFIB 頁面與 CXe 資料表明列氙離子源、大面積截面與無鎵 TEM 製樣;專用資料表標示 2020 年版本。查看適用前提、排除條件與正式方案關係
- 用於先進 3D 封裝及互連材料的局部結構/失效分析;可在電性、熱或其他影像定位後,針對目標區域製樣。
- 原始破面位置、目標層、樣品尺寸與離子束/製樣設定
- 適用邊界 切削會改變樣品,分析亦限於取樣區域;需評估製樣痕跡與材料反應,單張截面影像不足以證明失效原因。 評估準備 BLNKK 建議準備失效位置、封裝堆疊與材料、既有電性/影像結果、目標截面方向及可接受的破壞範圍。 向供應商確認 請確認適用機型與選配、目標區域的定位/製樣流程、材料與尺寸相容性,以及需要的 SEM、3D 或 TEM 分析。
- FIB 製樣可能引入假象,影像本身不能確定 IMC 成分或根因。
仍缺少的證據與適用條件
- 尚無本接點臨界 IMC 厚度、材料排名或力學資格;bulk toughness 估計不能代薄層介面。
- 尚無供應商參與確認、樣品驗證或真實專業回覆;公開能力不能代表承接意願。
- 本地方法尚未刊登為可證實相同關係的 canonical solution。
參考資料
15筆原廠或機構資料
展開查核來源與限制
參考資料
15筆原廠或機構資料
列非破壞電性/X-ray 定位,再以截面、FIB、SEM、EDX 等做目標分析。
限制:公開分析清單不保證特定 bump、IMC 或 PCB 層的解析度/承接;製樣假影、取樣代表性與可破壞範圍另確認。報告 bulk Cu6Sn5、Cu3Sn、Ni3Sn4 機械性質及脆性背景;indentation fracture toughness 被明示為估計。
限制:1991 bulk 試片不是薄層接點資格;不建立通用 IMC 臨界厚度、實際破面或材料排名。列 shear、pull、hot bump/pin pull 與受控治具/影像的接點力學測試能力。
限制:工具能力不是本產品 drop/疲勞結果;pull/shear、速度、工具高度與製樣不可任意互換,不使用產品最大力作樣品門檻。歷史 TMF 綜述指出 bulk creep/力學資料不能單獨外推接點可靠度,當時合金排序依元件與循環條件改變。
限制:2001 綜述只支持比較方法與外推限制;不把當時知識缺口說成目前全文獻狀態,也不給通用壽命/合金排名。官方產品頁明列銅擴散阻障用途及添加劑調整方式;未公開特定焊點的 IMC 脆裂改善或老化資格資料。
限制:適用邊界 這是金屬化變更,不是既有脆裂接點的修復。公開頁未提供指定 pad/焊料組合的合格條件,不能據此宣稱消除脆裂。 評估準備 BLNKK 建議整理 pad/UBM 層序、焊料、鎳層厚度及後續熱歷程,準備截面、IMC 與破面對照,以比較變更前後的接點行為。 向供應商確認 確認阻障用途所需的添加劑、浴液控制、設備與前處理,以及層厚/均勻性要求。討論與現有金屬堆疊的相容性及需補做的老化試驗。現行資料表列出最高 4 m/s 剪切與峰前/峰後能量;技術頁說明曲線可協助區分破壞類型。
限制:適用邊界 屬破壞性、速率相關的局部測試;不能直接等同整板跌落或熱循環壽命。曲線不能單獨認定 pad cratering,仍需破壞面/截面證據。 評估準備 BLNKK 建議整理接點尺寸、材料/製程、工具高度、方向、速度與夾具,並建立一致的破壞分類及對照樣品。 向供應商確認 請確認加速間隙、感測器/轉接器、校正、取樣與能量分析方式,以及代表性試片與板級測試的相關性。Instron 系列頁與 E1000 V9 技術資料確認動態/靜態測試及配置;未提供本接點的失效驗證。
限制:適用邊界 力學曲線不能單獨辨認 IMC 破面,也不等於熱循環或實際壽命。E1000 不應套用其他系列型號的扭轉能力;低力與頻率表現需依配置確認。 評估準備 BLNKK 建議整理試片與夾具尺寸、接點方向、負荷/位移模式、幅值與頻率,以及局部變形和破面觀察。 向供應商確認 確認荷重元量程與有效精度、夾具順應性、對準和循環控制窗口,並討論破壞判定及試驗後顯微分析。原廠 G2 四頁資料表說明成像、EDS 與繞射能力,文件版次為 2021 年 12 月。
限制:適用邊界 薄片為局部、破壞性取樣,不能代表整個焊點;EDS 成分本身不能完整判定相別或斷裂原因。 評估準備 BLNKK 建議整理失效位置、層次/材料、熱履歷、良品對照及薄片製備紀錄,並評估厚度與製樣假象。 向供應商確認 確認製樣責任、取樣代表性、束流損傷控制、EDS 配置,以及是否需繞射或其他方法輔助判讀。JEOL 官方頁列出 TEM/STEM、EDS 選配、FIB 薄片轉移流程及半導體元件分析範例。
限制:適用邊界 薄片只代表取樣區域,製片偏差及電子束影響需納入判讀;元素分布不能單獨證明破裂機制、焊點強度或壽命。 評估準備 BLNKK 建議整理原始破裂座標、界面疊層、製片紀錄與待分析元素,並保留電性、截面及製程背景資料。 向供應商確認 確認薄片與載具是否適用、EDS 等選配及分析條件,並議定如何辨識製片或束流造成的變化。原廠 Ni、Pd HS 與 Au 頁分別說明鍍層及用途,並區分 ENEPIG、ENIG 與 ENEP。
限制:適用邊界 表面處理不能保證消除脆性 IMC;不同鎳配方與浸金/自催化厚金製程不可視為相同條件。 評估準備 BLNKK 建議整理焊墊材料、目標鍍層厚度、焊料與回焊/老化歷程,以及既有潤濕、截面與破裂位置資料。 向供應商確認 確認各層配方與前處理、厚度窗口、設備相容性,以及樣品驗證與可靠度評估方式。EAG 官方頁與 2023 年修訂的三頁方法文件說明晶相、織構及量測限制。
限制:適用邊界 微量或微小晶相可能無法辨識;XRD 不直接給出破裂位置或深度剖面,也不能辨識非晶成分的化學組成。 評估準備 BLNKK 建議整理接合材料、熱歷程、疑似 IMC 與截面/破裂位置,並準備代表性正常及異常取樣。 向供應商確認 確認可用樣品與量測幾何、微區或掠入射配置、晶相參考及實際可辨範圍,並核對如何與截面證據整合。JEOL 的具名產品頁及發布說明公開整合式 WDS/EDS 分析能力,未提供特定焊點介面的定量誤差或脆裂根因驗證。
限制:適用邊界 WDS 元素組成不能單獨證明晶相或裂紋原因。薄層分析可能混入鄰近材料訊號,不能把光束或影像尺度直接視為成分分析的有效取樣尺度。 評估準備 BLNKK 建議準備失效/正常位置圖、疊層材料、預估層厚、製樣履歷及已有 SEM/EDS 資料。先界定待比較元素與區域,再討論標準試片及定量需求。 向供應商確認 確認束流/電壓、標準與校正、背景/鄰層影響及檢出限的驗證方法。若需判別晶相或根因,另約定搭配的方法與可支持的結論。原廠列出拉力、剪切與冷凸塊拉力選項,平台測試力範圍為 0.01 gf–50 kgf,另有失效影像與自動搬送/追溯功能。實際量程與功能依量測模組及配置確認。
限制:適用邊界 局部接合強度不能單獨代表整體封裝壽命。破壞性測試會消耗樣品;是否適用非破壞或指定載荷模式,需依接合形式與驗收方法確認。 評估準備 建議準備接合尺寸、材料、樣品照片、可接受的破壞方式、測試標準與抽樣計畫,並說明所需的失效分類和資料追溯。 向供應商確認 確認量測模組、工具幾何、力值量程、載入方向與速度,以及樣品夾持/上料相容性。另確認重複性、失效分類及工廠通訊功能的配置。原廠服務頁與應用說明列出失效驗證、非破壞檢查、故障定位和物理分析,並以案件需求決定分析範圍。
限制:適用邊界 找到異常位置不一定等同確認根因;切片或去層也可能改變樣品,應先約定分析順序、對照樣品與可接受的破壞程度。 評估準備 可先整理故障症狀、重現條件、測試與製程紀錄,並準備失效品及良品對照、結構圖與已完成的檢查結果。 向供應商確認 請確認案件可採方法、樣品數與保存安排、破壞分析授權,以及交付報告能回答的問題、時程和費用範圍。原廠 Helios 5 PFIB 頁面與 CXe 資料表明列氙離子源、大面積截面與無鎵 TEM 製樣;專用資料表標示 2020 年版本。
限制:適用邊界 切削會改變樣品,分析亦限於取樣區域;需評估製樣痕跡與材料反應,單張截面影像不足以證明失效原因。 評估準備 BLNKK 建議準備失效位置、封裝堆疊與材料、既有電性/影像結果、目標截面方向及可接受的破壞範圍。 向供應商確認 請確認適用機型與選配、目標區域的定位/製樣流程、材料與尺寸相容性,以及需要的 SEM、3D 或 TEM 分析。相關技術問答
- 原始裂紋在哪一層,製樣是否可能移動破面?
- 實際相與層序如何鑑別,厚度分布與解析度限制為何?
